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学微电子净化工程亦名无尘室或清净室，目前已是半导体、精密制造、液晶制造、光学制造、线路板制造和生***学、、食品制造等行业不可或缺的重要设施。近几年来，由于技术之创新发展，对于产品的高精密度化、细小型化之需求更为迫切，如超大型积体电路之研究制造，已成为世界各国在科技发展上极为重视的项目，而我公司的设计理念及施工技术在行业中则处于地位。

学微电子净化工程一般包括：

1、 洁净生产区

2、 洁净辅助间（包括人员净化用房、物料净化用室和部分生活用室等）

3、 管理区（包括办公、值班、管理和休息等）

4、 设备区（包括净化空调系统应用、电气用房、高纯水和高纯气用房、冷热设备用房）

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洁净室中的气流速度规定

这里要讨论的气流速度是指洁净室内的气流速度，在其他洁净空间中的气流速度在讨论具体设备时再说明。

对于乱流洁净室 由于主主要靠空气的稀释作用来减轻室内污染的程度，所以主要用换气次数这一概念，而不直接用速度的概念，不过对室内气流速度也有如下要求；

(1)送风口出口气流速度不宜太大，和单纯空调房间相比，要求速度衰减更快，扩散角度更大。

(2)吹过水平面的气流速度（例如侧送时回流速度）不宜太大，以免吹起表面微粒重返气流，而造成再污染，这一速度一般不宜大干0.2m/s。

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20世纪60年代的洁净工程在美国、欧洲等发达***顺应各行各业产品生产和科学实验活动的需要得到了广泛应用，可以认为是洁净工程的大发展时期。美国在1961年诞生了国际上早的洁净室标准即美国空程条令203，******室净化工程，并把编制联邦***标准的任务交给了原子能的出版机构;1963年底颁布了个部分的联邦标准即FS-209，从此联邦标准'209'就成为国际通行的、的洁净室标准; 1966年颁布了修订后的FS-209A，1957年前苏联颗人造上天后，美国***加速发展宇航事业、精密机械加工和电子工业，这些都要求具有受控空气洁净的生产环境，从而带动洁净工程及其设备制造的大发展，1961年单向流洁净工程和100级洁净室的建立，更促进了洁净工程的进一步发展。